Šperos.lt > Elektronika > Joninės–reaktyvinės technologijos

Joninės–reaktyvinės technologijos

www.speros.ltwww.speros.ltwww.speros.ltwww.speros.ltwww.speros.lt
9.5
  (
2
atsiliepimai)
Atsisiųsti šį darbą
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
www.speros.lt
Aprašymas:
Jono pluošto ėsdinimo įrenginio reikalavimai. Ėsdinimo greitis prieš pluošto kampą. Reaktyvusis jonų ėsdinimas. Reaktyvus jonų pluošto ėsdinimas. RIBE įrenginys. Ėsdinimo dielektrikai. Kitos organinės plėvelės arba apsauginiai sluoksniai. Metalizacijos ėsdinimas. Gedimo lokalizavimas. Ėsdinimo koncentracija. Blokavimas.
Rodyti daugiau
Darbo tipas:Referatai
Kategorija:
Apimtis:

12 psl.

Lygis:

3 klasė / kursas

Švietimo institucija:

Vilniaus Gedimino Technikos Universitetas

Failo tipas:

Microsoft Word 472.9 KB

Atrask reikiamos informacijos šiame darbe!Atsisiųsti šį darbą